智能立式旋转沉积炉

发布时间: 2025-09-26 19:50:08    浏览次数:130

1200℃智能立式旋转沉积炉”是一款为高性能薄膜材料制备设计的高端热工设备。它将高温管式炉技术、化学气相沉积(CVD)或物理气相沉积(PVD)工艺、样品旋转机构和智能化控制系统集成于一体,运用手动抬升,精准定位,自由取放样品,自动旋转,高真空等功能;通过在高达1200℃的温度下,实现薄膜的高均匀性、高致密性沉积。该设备广泛应用于半导体、光伏、光学、新材料研发等领域。

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设备特点

立式旋转结构垂直设计:减少颗粒沉降污染,便于大尺寸或长条状基底的装载。

采用手动摇杆抬升,方便提取物料,精密旋转平台:转速可调(如0-500rpm),运行平稳,振动小。

动态密封:旋转轴与真空腔体之间采用金属波纹管或磁流体密封,确保在旋转状态下仍能维持高真空或正压气氛。

高温加热系统:

加热元件:采用电阻丝(1100℃)沿炉膛圆周均匀布置,保证径向温度均匀性。

多温区控温:可配置双温区或三温区,精确控制轴向温度梯度,满足复杂工艺需求。

炉管材质:高纯石英管(透明,耐高温,化学惰性好),便于观察内部过程。

智能控制系统:

人机界面:配备触摸屏或计算机软件,实时显示温度、压力、转速、气体流量等参数,支持数据记录与导出。

联网功能,通过RJ45接口,采用TCP/IP协议,可以让系统与上位机相连(上位机需安装相应软件);

真空与气氛系统:

可选配机械泵(或分子泵)实现高真空环境

可选配多路质量流量控制器(MFC)精确控制多种工艺气体(如Ar, N, H, SiH, NH₃)的流量。

可选配尾气处理装置,安全处理有毒、易燃废气。

高精度与高均匀性:

炉内有效工作区温度均匀性通常优于 ±5°C

旋转+多面加热的设计,确保薄膜沉积的厚度均匀性和成分一致性达到高水平。

设备名称

智能立式旋转沉积炉

规格型号

NBD-LTO1200-120TIFN-150

供电电源

AC220V 50HZ

额定功率

2.4KW

控温精度

±1℃

加热元件

合金电阻丝

传感器类型

K型热电偶φ1*250mm

Tmax

1200℃

长期工作温度

≤1150℃

推荐升温速率

≤10℃/min

炉管类型及尺寸

石英管φ120*3*570mm

雾化气进气管

石英管φ16*2*380mm

炉膛温区尺寸

Φ150*195mm

浮子流量计

0.5-8L/min

手摇丝杠滑台

行程430mm

沉积样品

样品台槽30*30mm

炉体尺寸

855*高1795*深530mm

炉体重量

135KG

控制系统

1、烧结工艺曲线设置:动态显示设置曲线,设备烧结可预存多条工艺曲线,每条工艺曲线可自由设置;

2、可预约烧结,实现无人值守烧结工艺曲线烧结;

3、实时显示烧结功率电压等信息并记录烧结数据,并可导出实现无纸记录;

4、具有实现远程操控,实时观测设备状态;

5、温度校正:主控温度和试样温度的差值,烧结全程进行非线性修正。

温度精度

+/- 1℃

真空度:10Pa(机械泵)

净重

495KG

设备使用注意事项

1、设备炉膛温度≥300℃时,禁止打开炉膛,避免受到伤害;

2、炉膛连续使用产生的轻微裂纹属于正常现象,不影响设备的正常使用;

服务支持

一年有限保修,提供终身支持(保修范围内不包括易耗部件,例如处理管和O形圈,请在下面的相关产品处订购更换件)

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