CVD系统HR1200-110TID3F
发布时间： 2018-11-28 00:40:54 浏览次数：4557
设备简介：
化学气相沉积(CVD)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是半导体工业中应用阀非常广泛的用来沉积薄膜材料的技术，包括大范围的绝缘材料，以及大多数金属材料和金属合金材料。为此我们研发成套的CVD镀膜系统，适用于各大高校材料实验室、科研院所、环保科学等领域；
该CVD系统主要由采用红外加热的快速热处理炉（RTP）、气体流量控制柜及真空泵组成，升温速率可达300℃/秒。移动式加热炉膛，可使热处理后的样品直接移动至室温下。系统内置热疲劳测试功能，可根据实验工艺设置热疲劳测试参数，系统将自动运行。
| 设备特点； 快速升温：采用先进的红外加热技术，能够实现极高的升温速率，确保样品能够在短时间内达到所需温度。 精确控制：配备高精度温度传感器和PID控制系统，确保温度均匀性和稳定性，支持复杂的温度曲线编程。 移动式加热炉膛：设计有可移动的加热炉膛，使得热处理后的样品可以直接移动至室温环境，减少冷却时间，提高实验效率。 | ||||||||
产品型号 | NBD-HR1200-110TI | ||||||||
工作温度 | ≤1100℃ | ||||||||
加热区尺寸 | 200mm | ||||||||
升温速率 | ≤100℃/s | ||||||||
电气规格 | AC 380V 15KW | ||||||||
气体系统（可选购） | 流量计类型 | 浮子流量计 | 质量流量计 | ||||||
管道示意图 |
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进气接口数量 | 2、3、4（多路可选） | ||||||||
流量范围 | 20-250/20-800ml/min(多量程可选) | 50/100/200sccm(多量程可选) | |||||||
工作压差范围 | 0-0.15MPa | ||||||||
低真空系统（可选购） | 真空泵型号 | NBD-1.5C | NBD-3C | NBD-4C | |||||
抽气速率 | 1L/s | 3L/s | 4L/s | ||||||
进排气口尺寸 | Φ8mm宝塔接头 | Φ8mm宝塔接头 | KF16/25 | ||||||
极限压力 | 1000Pa | 100Pa | 10Pa | ||||||
工作温度 | 5-40℃ | ||||||||
电气规格 | AC220V | ||||||||
高真空系统（可选购） | 真空泵型号 | NBD-103(A) | NBD-103(B) | NBD-103(C) | |||||
抽气速率 | 110L/s | 600L/s | 700L/s | ||||||
真空测量计 | 复合真空计 | ||||||||
极限压力 | 10^-3Pa | 10^-4Pa | 10^-5Pa | ||||||
工作温度 | 5-40℃ | ||||||||
电气规格 | AC 220V | AC 220V | AC 380V | ||||||
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