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双炉膛滑轨式PECVD

发布时间:2020-07-25  浏览次数:1754

设备简介:

双温区的PECVD管式炉系统,组成部分为500W的射频发生器、可定位的独立滑动式烧结炉、高精度质量流量混合系统、稳定防反油真空系统。此款PECVD可用于生长纳米线或用CVD方法来制作各种薄膜。



                         

 

                            



配置详情


主要特点:

1. 清洗镀膜一气呵成,杜绝二次污染;
2. 上开启式结构,方便观察试样;
3. 产品采用全自动控制方式,触摸屏,数字化显示;
4. 可通过炉体滑动来达到快速升温和快速降温的效果;
5. 稳定的射频电源,均匀的温度分布,提高成膜质量;

产品型号

NBD-PECVD1200-50T2-N

电气规格

AC220V 3KW   射频功率:300500 13.56Mhz

可达温度

1200 ℃ (<1小时)

连续温度

1100 ℃ (连续)

可达加热速率

20 /分钟

加热区长度

200mm+200mm(两个加热温区分别加热,分体式设计使温度梯度可以达到极限)

炉管尺寸

Φ50*1800mm

射频线圈

 

采用多节点镀银的水冷铜线圈,可匹配不同频率的射频电源 

控制系统

1.可预存15条温度曲线,避免不同的实验工艺重复设置带来的麻烦;
2.实验过程更加直观,操作更加便捷;
3.可另选配无线控制模块,实现远程操控;

4.具有超温报警。



控温精度

+/- 1 ℃

加热元件

Mo掺杂的Fe-Cr-Al合金

密封系统


真空度:≤10Pa(机械泵),达到启辉条件。

压力测量与监控

采用数显真空计可直观显示设备的真空度,实验数据及效果更加准确。

供气系统

采用质量流量计控制,与设备一体化,方便控制,出厂前已进行漏气测试工作。

净重

100KG


设备使用注意事项

1.设备炉膛温度≥300℃时,禁止打开炉膛,避免受到伤害;

2.设备使用时,炉管内压力不得超过0.125MPa(绝对压力),以防止压力过大冲开密封法兰;

3.高真空下使用时(10的负3次方Pa),设备使用温度不得超过800℃。

服务支持

一年有限保修,提供终身支持;


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