LiF(氟化锂)晶体基片-A-Z晶体及材料-高温炉生产厂家_诺巴迪材料科技有限公司
    收藏本站    |   联系我们    |  中文 / EN
    A-Z晶体及材料 当前位置:网站首页 > 产品展示

LiF(氟化锂)晶体基片

发布时间:2024-04-09  浏览次数:69


LiF晶体基片广泛应用于紫外窗口,棱镜等领域

产品名称

氟化锂(LiF)晶体基片

技术参数

晶体结构:立方晶系 

晶格常数:4.026 Å   

密度:2.635 g/cm3

熔点:855 °C

硬度:4 Mohs

热膨胀系数:37×10-6/K

折射率:no=1.39212

透过波段:0.11-7.0um

透过率:> 85% @ 5 um> 65% @ 0.2 um

色彩离差:0.00395

温度系数: -12.7 @ 0.6 m

生长方法:布里奇曼法

产品规格

常规晶向:      

 常规尺寸:10 x 10 x 0.5 mm  5x 5x 0.5mm

抛光情况:单抛 双抛

表面粗糙度:<5A

注:尺寸及方向可按照客户要求定做。

晶体缺陷

人工金属单晶存在常见晶体缺陷,表面可能会有小黑点,微小气泡等。

标准包装

1000级超净室,100级超净袋或单片盒封装。

晶体材料咨询电话:199-5653-2471王经理