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化学气相沉积CVD一体机

发布时间:2021-04-14  浏览次数:1022

设备简介:

化学气相沉积(CVD)是指化学气体或在基质表面反应合成涂层或米材料的方法,是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积薄膜材料的技术,包括大范围的绝缘材料,以及大多数金属材料和金属合金材料。为此我们研发成套的CVD镀膜系统,适用于各大高校材料实验室、科研院所、环保科学等领域;


 

 

 

 

 

 

 

技术参数 

 

1.炉体与控制系统集成一体化,使试验方便快捷直观。

2.配置浮子流量计或质量流量计混气气路,可以单独设置气体流量。

3.精确PID程序多段控制,实现不同工艺多段温度时间监控。

4.炉衬采用高纯氧化铝轻质纤维材料,保温效果极佳。

5.配备机械泵或分子真空泵,可以实现不同的真空条件。

产品型号


NBD-T1700-80TIG3Z

工作温度


≤1650

加热区尺寸


310mm

恒温区尺寸
220mm

升温速率


20/min

电气规格


AC 220V  4.5KW

控制系统

1、烧结工艺曲线设置:动态显示设置曲线,设备烧结可预存多条工艺曲线,每条工艺曲线可自由设置;
2、可预约烧结,实现无人值守烧结工艺曲线烧结;
3、实时显示烧结功率电压等信息并记录烧结数据,并可导出实现无纸记录;
4、具有实现远程操控,实时观测设备状态;
5、温度校正:主控温度和试样温度的差值,烧结全程进行非线性修正。

气体系统(可选购)


流量计类型

浮子流量计

质量流量计

管道示意图

 

 

进气接口数量

2、3、4(多路可选)

流量范围

20-200/60-600l/min(多量程可选)

50/100/200sccm(多量程可选)

工作压差范围

0-0.15MPa

低真空系统(可选购)

真空泵型号

NBD-1.5C

NBD-3C

NBD-4C

抽气速率

1L/s

3L/s

4L/s

进排气口尺寸

Φ8mm宝塔接头

Φ8mm宝塔接头

KF16/25

极限压力

1000Pa

100Pa

10Pa

工作温度

5-40

电气规格

AC220V

分子泵高真空系统

(可选购)

分子泵系统型号

NBD-103(A)

NBD-103(B)

NBD-103(C)

抽气速率

110L/s

600L/s

700L/s

真空测量计

复合真空计

极限压力

10^-3Pa

10^-4Pa

10^-5Pa

工作温度

5-40

电气规格

AC 220V

AC 220V

AC 380V

* 支持非标定做,更多型号,欢迎来电垂询400-000-3746

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