发布时间:2024-08-09 浏览次数:85
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设备简介: 此设备以其独特的真空冷却沉积技术和精确的温度控制能力,成为实验室中进行高温处理、材料合成和性能测试的理想选择。通过优化设计和控制技术,这种设备能够提高实验效率和数据准确性,促进材料科学领域的研究与发展。 |
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配置详情
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设备特点: 1. 真空环境:炉体内部设计为真空环境,支持高真空度,减少氧气和其他杂质的影响,适用于需要在高纯度条件下进行的材料制备和处理过程。 2. 冷却系统:配备高效的冷却系统,如水冷,确保在沉积过程中能够快速冷却样品,提高沉积材料的质量。
3、气氛控制:支持多种气氛环境,包括真空、惰性气体(如氮气、氩气)等,以适应不同的实验需求。
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设备名称 |
箱式气氛炉 |
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Tmax |
1500℃ | |||||||
额定温度 |
1450℃ |
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规格型号 |
NBD-VA1500-30TID2F10LW |
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供电电源 |
三相380V 50HZ |
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额定功率 |
6KW |
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传感器类型 |
单铂姥S型热电偶 |
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升温速率 |
1℃/H-20℃/Min |
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炉膛尺寸 |
300*300*400mm |
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炉体尺寸 |
1560*1730*1020mm(长*高*深) |
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重量 |
约400KG |
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控制系统 |
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1、烧结工艺曲线设置:动态显示设置曲线,设备烧结可预存多条工艺曲线,每条工艺曲线可自由设置; 2、可预约烧结,实现无人值守烧结工艺曲线烧结; 3、实时显示烧结功率电压等信息并记录烧结数据,并可导出实现无纸记录; 4、具有实现远程操控,实时观测设备状态; 5、温度校正:主控温度和试样温度的差值,烧结全程进行非线性修正 |
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冷却沉积罐 | 采用双层水循环冷却装置,降低罐内温度,使得低温冷凝物质全部冷凝于罐内,防止出气端出现堵塞。 | |||||||
温度精度 |
±1℃ |
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加热元件 |
抗酸耐腐性能优越的高纯硅碳棒 |
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设备使用注意事项 |
1.设备炉膛温度≥300℃时,禁止打开炉膛,避免受到伤害; 2.炉膛连续使用产生的轻微裂纹属于正常现象,不影响设备的正常使用。 |
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服务支持 |
一年有限保修,提供终身支持(保修范围内不包括易耗部件,例如处理管和O形圈,请在下面的相关产品处订购更换件)。 |
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