中科院新疆理化所

发表时间：2020-04-17 阅读:4815次

中国科学院新疆理化技术研究所引进了我公司设计生产的高真空CVD系统，研究所王老师对我们的产品和服务给予了充分的肯定！

CVD系统HR1200-110ITD3F

设备简介：

    化学气相沉积(CVD)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积薄膜材料的技术，包括大范围的绝缘材料，以及大多数金属材料和金属合金材料。为此我们研发成套的CVD镀膜系统，适用于各大高校材料实验室、科研院所、环保科学等领域；

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