发布时间: 2026-06-18 浏览次数:526
![]() | 设备特点: • 三温三控分区控温:三段独立闭环温控,梯度温场,温度均匀性高,适配连续沉积工艺 • 射频等离子沉积:高频射频电源,等离子体均匀激发,成膜致密均匀、附着力强 • 石英管洁净腔体:高耐温、高洁净、无杂质析出,适配高精度薄膜制备 • 铜箔连续收放输送:自动卷对卷走料,连续化生产,效率高、基材损耗低 • 真空恒压烧结系统:真空泵组+恒压稳压模块,全程气压恒定,工艺稳定性极强 • 质量流量计精准气控:多路气体精准配比、恒流进气,工艺参数高度可控 • 全自动气路清洗:一键自动吹扫净化,杜绝残气污染,批次一致性好 • 全流程自动化联动:参数可保存、可复现,适配研发与量产双场景 | |
设备名称 | 卷对卷二维材料制备系统 | |
规格型号 | NBD-O1200-100TP3D4ZY-N | |
供电电源 | AC380V 50/60HZ | |
额定功率 | 总功率:10KW | |
温区数量 | 三温三控 | |
控温精度 | ±1℃ | |
加热元件 | 合金加热丝 | |
传感器类型 | K型热电偶 | |
Tmax | 1200℃ | |
推荐升温速率 | ≤10℃/min | |
炉膛温区尺寸 | 600mm | |
反应腔 | Φ100*1400mm | |
真空腔尺寸 | Φ425mm | |
射频电源 | VERG-300W 13.56MHZ | |
进气口 | Φ6.35mm双卡套 | |
排气口 | 自动排气口:φ8mm宝塔 | |
抽真空口 | KF25 | |
卷对卷机构 | 适合宽度≤80mm铜箔,厚度建议≥0.04mm,最大外径≤170mm,(0.04mm铜箔2000米长左右) 移动速度:1-100mm/min可调; | |
炉体尺寸 | 长2660*高1620*深990mm | |
炉体重量 | 约600KG | |
控制系统 |
| 1、烧结工艺曲线设置:动态显示设置曲线,设备烧结可预存多条工艺曲线,每条工艺曲线可自由设置; 2、可预约烧结,实现无人值守烧结工艺曲线烧结; 3、实时显示烧结功率电压等信息并记录烧结数据,并可导出实现无纸记录; 4、具有实现远程操控,实时观测设备状态; 5、温度校正:主控温度和试样温度的差值,烧结全程进行非线性修正。 |
预约烧结 | ![]() | 优化设备利用率、保障烧结工艺稳定性、节省等待时间,实现高效有序的样品制备。 |
实验数据存储 | ![]() | 保障数据安全完整、规范化管理与高效检索。 |
非线性温度修正 | ![]() | 通过算法非线性修正控温点与样品由于在温场中位置不同而产生的温度偏差,提升控制温度与样品温度的一致性、简化操作,提升实验数据准确。 |
可预设多组工艺程序 | ![]() | 可预设多组实验专属温度程序、保障实验重复性与操作便捷性,支持工艺优化与数据追溯,适配团队协作与技术传承,大幅提升实验效率与设计灵活性。 |
远程操控 |
| 可通过电脑、手机等终端,随时随地登录控制系统查看加热炉运行状态(温度、压力、升温速率等),并根据实验需求远程调整参数、启动 / 暂停程序。夜间或节假日无需往返实验室,即可应对实验过程中的参数微调需求;跨地域出差时也能实时监控关键实验进程,大幅减少无效通勤时间,让科研人员更高效地分配工作精力。 |
压力测量与监控 |
| 采用机械压力表,表外壳为气密型结构,能有效保护内部机件免受环境影响和杂物侵入,同时具有较强的耐腐蚀和耐高温的能力。 |
浮子流量计 |
| 采用浮子流量计控制气体流速,与设备集成为一体,且出厂前已进行漏气测试工作。 |
设备使用注意事项 | 1.设备使用时,绝对压力表读数不要大于0.15MPa,以防止压力过大造成设备损坏; 2.真空下使用时,建议设备使用温度不得超过800℃,如有更高温度需求请联系我们进行咨询; | |
服务支持 | 1年质保,提供终身支持(保修范围内不包括易耗部件,例如炉管和密封圈等)。 | |

石墨烯薄膜:在铜箔上卷对卷生长大面积、单层/少层石墨烯透明导电薄膜。
· 柔性电子材料:制备柔性显示屏、触摸屏、可穿戴设备所用的透明电极与阻隔薄膜。
· 储能材料:连续制备超级电容器、锂离子电池用纳米结构电极材料。
· 二维半导体材料:合成二硫化钼(MoS₂)、二硫化钨(WS₂)等大面积单层至多层连续薄膜。
· 表面功能涂层:在各种柔性金属箔带上沉积防腐、耐磨或增强型功能涂层。