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立式自动化高压炉

发布时间: 2026-05-23    浏览次数:373

        自动化高压管式炉是一款集高温加热、精准控温与智能操作于一体的工业级加热设备,广泛应用于材料科学、冶金、化工等领域,可实现粉末烧结、样品退火、气相沉积等实验与生产需求设备核心优势在于 “自动化” 与 “高压” 双属性:采用智能温控系统,支持多段程序升温,控温精度达 ±1℃,可自动完成升温、保温、降温全流程,减少人工干预;高压腔体设计能承受 0.1-4MPa 压力,适配惰性气体、还原性气体等多种气氛环境,满足特殊反应条件。炉管选用不同材质可满足各种工况需求,搭配双极安全保护系统,兼顾实验安全性与操作便捷性,是科研机构与企业实现高效、稳定加热工艺的核心设备。

  

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设备特点:

1.精准控温与稳定加热:采用智能温控系统,控温精度可达 ±1℃,支持多段程序升温,能精准匹配不同实验工艺需求,加热元件均匀分布,确保炉管内温度场稳定,减少局部温差影响。

2.高压耐受与安全保障:炉体设计可承受较高工作压力(通常 0.1-4MPa,具体依型号定),密封结构严密,搭配压力监测与超压保护装置,同时具备过温、断偶等报警功能,降低安全风险。

3.自动化与便捷操作:集成自动进气、排气、压力调节模块,可通过触摸屏或上位机远程设定参数并监控运行状态,减少人工干预,部分型号支持数据存储与导出,便于实验数据追溯。

4.多功能适配性:兼容惰性、还原性、氧化性等多种气氛,可满足材料烧结、气相沉积、高温反应等不同实验场景,且炉管装卸便捷,利于样品更换与设备维护。

设备名称

立式自动化高压炉

规格型号

NBD-HPL1100-6092TP2D2Y

供电电源

AC380V 50HZ

额定功率

7KW

控温控压精度

控温±1℃/控压波动± 0.05Mp

传感器类型

K型热电偶

长期工作温度

1100℃

推荐升温速率

≤10℃/min

温区数量

单温双控

温区长度

双温双控600mm

炉管材质及尺寸

310S不锈钢管

样品台尺寸

φ50mm
极限压力1000℃  4Mpa(双重压力安全防护)
抬升速度

0-20mm/s可调

控制系统

1、烧结工艺曲线设置:动态显示设置曲线,设备烧结可预存多条工艺曲线,每条工艺曲线可自由设置;

2、可预约烧结,实现无人值守烧结工艺曲线烧结;

3、实时显示烧结功率电压等信息并记录烧结数据,并可导出实现无纸记录;

4、具有实现远程操控,实时观测设备状态;

5、温度校正:主控温度和试样温度的差值,烧结全程进行非线性修正。

预约烧结优化设备利用率、保障烧结工艺稳定性、节省等待时间,实现高效有序的样品制备
非线性温度修正通过算法非线性修正控温点与样品由于在温场中位置不同而产生的温度偏差,提升控制温度与样品温度的一致性、简化操作,提升实验数据准确。
数据存储保障数据安全完整、规范化管理与高效检索
远程操控可通过电脑、手机等终端,随时随地登录控制系统查看加热炉运行状态(温度、压力、升温速率等),并根据实验需求远程调整参数、启动 / 暂停程序。夜间或节假日无需往返实验室,即可应对实验过程中的参数微调需求;跨地域出差时也能实时监控关键实验进程,大幅减少无效通勤时间,让科研人员更高效地分配工作精力。
可预设多组工艺程序可预设多类实验专属温度程序、保障实验重复性与操作便捷性,支持工艺优化与数据追溯,适配团队协作与技术传承,大幅提升实验效率与设计灵活性。
匹配机械臂或自动传输线

全流程自动化与无人值守:

无缝集成:自动开合功能与程序化温控(多段升降温)、全自动真空系统(抽真空、检漏)、气氛控制系统(充放气、气体切换)深度联动。

完整工艺链:实现“装样 → 自动关门 → 抽真空 → (可选)充保护气 → 程序升温 → 保温 → 程序降温 → 冷却 → 自动开门 → 取样”的全闭环自动化运行。

无人值守:整个过程无需人工干预,可24小时连续运行,显著提高设备利用率和生产效率。

温度精度

+/- 1℃

真空度

10Pa(机械泵)

净重

420KG

设备使用注意事项

1.设备使用时,绝对压力表读数不要大于0.15MPa,以防止压力过大造成设备损坏;

2.真空下使用时,建议设备使用温度不得超过800℃,如有更高温度需求请联系我们进行咨询;

3.使用该设备前,请仔细阅读刚玉制品使用注意事项;

服务支持

一年有限保修,提供终身支持(保修范围内不包括易耗部件,例如处理管和O形圈,请在下面的相关产品处订购更换件)

自动化高压管式炉的核心应用领域主要包括:

  • 材料科学:用于新型材料(如陶瓷、复合材料、纳米材料)的合成与处理,例如粉末烧结、样品退火、晶体生长等。

  • 冶金领域:金属粉末的还原、合金化处理、金属材料的退火或固溶处理等。

  • 化工领域:催化剂评价与制备、化学反应的高温高压模拟、特种化学品的合成。

  • 气相沉积(CVD):在高压和特定气氛下进行化学气相沉积,制备薄膜、涂层或二维材料(如石墨烯、氮化硼等)。

  • 其他典型应用

    • 锂离子电池正负极材料的煅烧与改性

    • 陶瓷材料的致密化烧结

    • 半导体材料的扩散与退火

    • 高压气氛下的还原/氧化处理(如金属氧化物还原)

    • 废料或生物质的高温热解处理(在保护气氛下)


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