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GaAs(砷化镓)晶体

发表时间:1970-01-01 阅读:400次


GaAs晶体

砷化镓是一种重要的半导体材料。属Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体。属闪锌矿型晶格结构。砷化镓是半导体材料中,兼具多方面优点的材料,但用它制作的晶体三极管的放大倍数小,导热性差,不适宜制作大功率器件。

产品名称

砷化镓(GaAs)晶体基片

技术参数

晶体结构:立方晶系

晶格常数:a=5.6534Å

导电类型:N型掺SiN型掺Te;不掺杂;P型掺Ga  

熔点:1237°C

禁带宽度:1.4电子伏

介电常数:13.1

位错密度:<5x103cm^2

迁移率:(3500-3600)cm2/vs

生长方法:VGF生产方法

产品规格

常规晶向:

常规尺寸:10x10x0.35mmdia2x0.35mm

抛光情况:单抛、双抛

表面粗糙度:<15A

注:尺寸及方向可按照客户要求定做。

晶体缺陷

人工生长单晶有可能存在晶体内部缺陷。

标准包装

1000级超净室100级超净袋

晶体材料咨询电话:199-5653-2471王经理

晶体制备相关设备   


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