发布时间： 2018-11-28 浏览次数：5492
设备简介：化学气相沉积(CVD)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是半导体工业中应用阀非常广泛的用来沉积薄膜材料的技术，包括大范围的绝缘材料，以及大多数金属材料和金属合金材料。为此我们研发成套的CVD镀膜系统，适用于各大高校材料实验室、科研院所、环保科学等领域；该CVD系统主要由采用红外加热的快速热处理炉（RTP）、气体流量控制柜及真空泵组成，升温速率可达300℃/秒。移动式加热炉膛，可使热处理后的样品直接移动至室温下。系统内置热疲劳测试功能，可根据实验工艺设置热疲劳测试参数，系统将自动运行。
| 设备特点； 快速升温：采用先进的红外加热技术，能够实现极高的升温速率，确保样品能够在短时间内达到所需温度。 精确控制：配备高精度温度传感器和PID控制系统，确保温度均匀性和稳定性，支持复杂的温度曲线编程。 移动式加热炉膛：设计有可移动的加热炉膛，使得热处理后的样品可以直接移动至室温环境，减少冷却时间，提高实验效率。 | ||||||||
产品型号 | NBD-HR1200-110TI | ||||||||
工作温度 | ≤1100℃ | ||||||||
加热区尺寸 | 200mm | ||||||||
升温速率 | ≤100℃/s | ||||||||
电气规格 | AC 380V 15KW | ||||||||
| 预约烧结 |  | 优化设备利用率、保障烧结工艺稳定性、节省等待时间，实现高效有序的样品制备 | |||||||
| 预设多组工艺程序 |  | 预设多组工艺程序，保障实验重复性与操作便捷性，支持工艺优化与数据追溯，适配团队协作与技术传承，大幅提升实验效率与设计灵活性 | |||||||
| 非线性温度修正 |  | 通过算法非线性修正控温点与样品由于在温场中位置不同而产生的温度偏差，提升控制温度与样品温度的一致性、简化操作，提升实验数据准确 | |||||||
气体系统（可选购） | 流量计类型 | 浮子流量计 | 质量流量计 | ||||||
管道示意图 |
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进气接口数量 | 2、3、4（多路可选） | ||||||||
流量范围 | 20-250/20-800ml/min(多量程可选) | 50/100/200sccm(多量程可选) | |||||||
工作压差范围 | 0-0.15MPa | ||||||||
低真空系统（可选购） | 真空泵型号 | NBD-1.5C | NBD-3C | NBD-4C | |||||
抽气速率 | 1L/s | 3L/s | 4L/s | ||||||
进排气口尺寸 | Φ8mm宝塔接头 | Φ8mm宝塔接头 | KF16/25 | ||||||
极限压力 | 1000Pa | 100Pa | 10Pa | ||||||
工作温度 | 5-40℃ | ||||||||
电气规格 | AC220V | ||||||||
高真空系统（可选购） | 真空泵型号 | NBD-103(A) | NBD-103(B) | NBD-103(C) | |||||
抽气速率 | 110L/s | 600L/s | 700L/s | ||||||
真空测量计 | 复合真空计 | ||||||||
极限压力 | 10^-3Pa | 10^-4Pa | 10^-5Pa | ||||||
工作温度 | 5-40℃ | ||||||||
电气规格 | AC 220V | AC 220V | AC 380V | ||||||
* 支持非标定做，更多型号，欢迎来电垂询400-000-3746 | |||||||||
由于出厂批次不准，设备参数依据实物为准。
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