发布时间： 2021-04-14 浏览次数：4171
设备简介：化学气相沉积(CVD)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积薄膜材料的技术，包括大范围的绝缘材料，以及大多数金属材料和金属合金材料。为此我们研发成套的CVD镀膜系统，适用于各大高校材料实验室、科研院所、环保科学等领域；
| 设备特点 1.炉体与控制系统集成一体化，使试验方便快捷直观。 2.配置浮子流量计或质量流量计混气气路，可以单独设置气体流量。 3.精确PID程序多段控制，实现不同工艺多段温度时间监控。 4.炉衬采用高纯氧化铝轻质纤维材料，保温效果极佳。 5.配备机械泵或分子真空泵，可以实现不同的真空条件。 | |||||||||
产品型号 | NBD-T1700-80TIG3Z | |||||||||
工作温度 | ≤1650℃ | |||||||||
加热区尺寸 | 310mm | |||||||||
| 恒温区尺寸 | 220mm | |||||||||
升温速率 | ≤20℃/min | |||||||||
电气规格 | AC220 4.5KW | |||||||||
预约烧结 |  | 优化设备利用率、保障烧结工艺稳定性、节省等待时间，实现高效有序的样品制备。 | ||||||||
远程控制 |  | 可通过电脑、手机等终端，随时随地登录控制系统查看加热炉运行状态（温度、压力、升温速率等），并根据实验需求远程调整参数、启动 / 暂停程序。夜间或节假日无需往返实验室，即可应对实验过程中的参数微调需求；跨地域出差时也能实时监控关键实验进程，大幅减少无效通勤时间，让科研人员更高效地分配工作精力。 | ||||||||
实验数据存储 |  | 保障数据安全完整、规范化管理与高效检索。 | ||||||||
可预设多组工艺程序 |  | 可预设多组实验专属温度程序、保障实验重复性与操作便捷性，支持工艺优化与数据追溯，适配团队协作与技术传承，大幅提升实验效率与设计灵活性。 | ||||||||
非线性温度补偿 |  | 通过算法非线性修正控温点与样品由于在温场中位置不同而产生的温度偏差，提升控制温度与样品温度的一致性、简化操作，提升实验数据准确。 | ||||||||
| 控制系统 |  | 1、烧结工艺曲线设置：动态显示设置曲线，设备烧结可预存多条工艺曲线，每条工艺曲线可自由设置； | ||||||||
气体系统（可选购） | 流量计类型 | 浮子流量计 | 质量流量计 | |||||||
管道示意图 |
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进气接口数量 | 2、3、4（多路可选） | |||||||||
流量范围 | 20-200/60-600l/min(多量程可选) | 50/100/200sccm(多量程可选) | ||||||||
工作压差范围 | 0-0.15MPa | |||||||||
低真空系统（可选购） | 真空泵型号 | NBD-1.5C | NBD-3C | NBD-4C | ||||||
抽气速率 | 1L/s | 3L/s | 4L/s | |||||||
进排气口尺寸 | Φ8mm宝塔接头 | Φ8mm宝塔接头 | KF16/25 | |||||||
极限压力 | 1000Pa | 100Pa | 10Pa | |||||||
工作温度 | 5-40℃ | |||||||||
电气规格 | AC220V | |||||||||
分子泵高真空系统 （可选购） | 分子泵系统型号 | NBD-103(A) | NBD-103(B) | |||||||
抽气速率 | 110L/s | 600L/s | ||||||||
真空测量计 | 复合真空计 | |||||||||
极限压力 | 10^-3Pa | 10^-4Pa | ||||||||
工作温度 | 5-40℃ | |||||||||
电气规格 | AC 220V | AC 220V | ||||||||
* 支持非标定做，更多型号，欢迎来电垂询400-000-3746 | ||||||||||
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