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双炉膛滑轨式PECVD

发布时间: 2020-07-26    浏览次数:5267

设备简介:双温区的PECVD管式炉系统,组成部分为500W的射频发生器、可定位的独立滑动式烧结炉、高精度质量流量混合系统、稳定防反油真空系统。此款PECVD可用于生长纳米线或用CVD方法来制作各种薄膜。

  

产品详情
应用领域
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应用案例

主要特点:

1. 清洗镀膜一气呵成,杜绝二次污染;

2. 上开启式结构,方便观察试样;

3. 产品采用全自动控制方式,触摸屏,数字化显示;

4. 可通过炉体滑动来达到快速升温和快速降温的效果;

5. 稳定的射频电源,均匀的温度分布,提高成膜质量;

产品型号

NBD-PECVD1200-50T2-N

电气规格

AC220V 3KW   射频功率:300或500瓦 13.56Mhz

可达温度

1200 ℃ (<1小时)

连续温度

1100 ℃ (连续)

可达加热速率

≤20 ℃/分钟

加热区长度

200mm+200mm(两个加热温区分别加热,分体式设计使温度梯度可以达到极限)

炉管尺寸

Φ50*1800mm

射频线圈


采用多节点镀银的水冷铜线圈,可匹配不同频率的射频电源。

预约烧结

优化设备利用率、保障烧结工艺稳定性、节省等待时间,实现高效有序的样品制备。

可预设多组工艺程序

可预设多组实验专属温度程序、保障实验重复性与操作便捷性,支持工艺优化与数据追溯,适配团队协作与技术传承,大幅提升实验效率与设计灵活性。

非线性温度补偿

通过算法非线性修正控温点与样品由于在温场中位置不同而产生的温度偏差,提升控制温度与样品温度的一致性、简化操作,提升实验数据准确。

控制系统


1、烧结工艺曲线设置:动态显示设置曲线,设备烧结可预存多条工艺曲线,每条工艺曲线可自由设置;

2、可预约烧结,实现无人值守烧结工艺曲线烧结;

3、实时显示烧结功率电压等信息并记录烧结数据,并可导出实现无纸记录;

4、具有实现远程操控,实时观测设备状态;

5、温度校正:主控温度和试样温度的差值,烧结全程进行非线性修正


温度精度

±1℃

加热元件

Mo掺杂的Fe-Cr-Al合金

密封系统

真空度:10Pa(机械泵)

压力测量与监控


采用数显真空计可直观显示设备的真空度,实验数据及效果更加准确。

供气系统

采用质量流量计控制,与设备一体化,方便控制,出厂前已进行漏气测试工作。



可选配

CRB升级型尾气净化器



本公司研制的NBD-B型外延炉尾气净化器,在结构上综合采用了2个喷洗室和1个填料柱室,洗涤器所产生的负压由人工手动控制,补水系统由人工根据工艺情况调节。水溶性气体的清除率高达 99.99%。净化效率最高、维护最方便,运行成本最低。
PECVD+CRB升级型尾气净化器应用

净重

200kg

设备使用注意事项


1.设备炉膛温度≥300℃时,禁止打开炉膛,避免受到伤害;

2.设备使用时,炉管内压力不得超过0.125MPa(绝对压力),以防止压力过大冲开密封法兰;

3.高真空下使用时(10的负3次方Pa),设备使用温度不得超过800℃。

服务支持

一年有限保修,提供终身支持(保修范围内不包括易耗部件,例如处理管和O形圈,请在下面的相关产品处订购更换件。)


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